簡要描述:全新USHIO牛尾 UFX-2123 卷對卷投影曝光裝置 USHIO 一直提供專門用于服務(wù)器、個(gè)人電腦、智能手機(jī)和平板電腦等移動(dòng)設(shè)備中使用的 封裝應(yīng)用的步進(jìn)機(jī)。這是一款封裝基板用步進(jìn)機(jī),采用了Ushio多年來積累的光源和光學(xué)技術(shù)以及我們 的大面積投影透鏡技術(shù),并使用了與面板尺寸相對應(yīng)的平臺(tái)。它實(shí)現(xiàn)了高生產(chǎn)率,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了封
全新USHIO牛尾 UFX-2123 卷對卷投影曝光裝置
全新USHIO牛尾 UFX-2123 卷對卷投影曝光裝置
USHIO 一直提供專門用于服務(wù)器、個(gè)人電腦、智能手機(jī)和平板電腦等移動(dòng)設(shè)備中使用的封裝應(yīng)用的步進(jìn)機(jī)。這是一款封裝基板用步進(jìn)機(jī),采用了Ushio多年來積累的光源和光學(xué)技術(shù)以及我們 的大面積投影透鏡技術(shù),并使用了與面板尺寸相對應(yīng)的平臺(tái)。它實(shí)現(xiàn)了高生產(chǎn)率,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了封裝基板所需的高分辨率和覆蓋精度。
[元件技術(shù)]
配備全球占有率第一的超高壓UV燈
具有高均勻性的 照射光學(xué)系統(tǒng)
的大面積投影鏡頭
響應(yīng)基板特定畸變的對準(zhǔn)技術(shù)
的TTL非曝光波長/對準(zhǔn)方法
Ushio的技術(shù)“TTL非曝光波長對準(zhǔn)"在觀察掩模標(biāo)記時(shí)無需暴露基板上的對準(zhǔn)標(biāo)記。此外,由于可以直接觀察工件標(biāo)記,因此不會(huì)因掩模而降低對比度,并且可以與清晰的標(biāo)記進(jìn)行高精度對準(zhǔn)。
兼容多種對準(zhǔn)標(biāo)記
由于支持對已登記圖案的圖案匹配,因此無需專用對準(zhǔn)標(biāo)記,即可與各種布線圖案進(jìn)行對準(zhǔn)。
高分辨率能力
配備Ushio投影鏡頭“UPL系列"以實(shí)現(xiàn)高分辨率。支持全面量產(chǎn),設(shè)計(jì)規(guī)則線距=5μm。
深景深
由于焦點(diǎn)深度較深(±50 至 100 μm),因此即使由于基板的臺(tái)階、翹曲或波紋而導(dǎo)致焦點(diǎn)偏離,也可以獲得與正確對焦時(shí)相同的圖案輪廓。當(dāng)曝光較厚的干膜、阻焊劑等時(shí)尤其有效。
使用表面平臺(tái)進(jìn)行高速步進(jìn)和重復(fù)
通過使用精密空氣軸承消除摩擦,并通過平面電機(jī)結(jié)構(gòu)使運(yùn)動(dòng)部件更輕、更堅(jiān)固,實(shí)現(xiàn)了高速步進(jìn)重復(fù)操作。此外,表面平臺(tái)使用激光干涉儀進(jìn)行反饋控制,實(shí)現(xiàn)高速運(yùn)行和高定位精度。
面罩無損傷
模型 | UFX-2123 | UFX-2477 | UFX-2894 | ||
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曝光面積 | □100毫米 | □140毫米 | □250mm | ||
膠帶寬度 | ~105毫米 | 156/158毫米 | 250毫米 | ||
解決 | 9μm長/秒 | 4μm長/秒 | 5μm長/秒 | ||
曝光波長 | 洲際線 | 我行 | 我行 |
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